沉積技術

薄膜沉積包括與襯底上生長層材料相關聯的許多技術，其厚度可以在小于1nm至幾微米的范圍內。 我們的真空設備由一組工程師量身定制，以滿足每個客戶的需求，并且能夠整合以下任何（或全部）：

濺射沉積

等離子體中包含的高能粒子的影響從目標材料的表面噴出原子，然后將其凝結在襯底的表面上以產生薄膜。

電子束蒸發

利用加速電子轟擊鍍膜材料，電子的動能轉化為熱能，使鍍膜材料融化并蒸發成膜。

電阻式熱蒸發

使用電流來加熱材料，使其達到蒸發點熔融并沉積到基片上。

發光薄膜控制

Apex是我們的光學控制包，可以集成到我們的PVD平臺中。

集成手套箱

集成手套箱，將在惰性氣氛環境中完成PVD鍍膜工藝。

可變角度樣品臺

通過這種新穎的過程增強進入第三維。可同時實現樣品臺的自轉，公轉及傾斜功能。

離子輔助沉積

寬束離子源通常具有濺射或電子束源，將具有一定范圍離子能量的分散離子束引向襯底。可實現基片的清洗及輔助鍍膜。

過程增強技術

您所定制的沉積平臺可擴展多種不同的增強功能，滿足多樣化需求。