EVOVAC PVD平臺

這個PVD平臺可以做任何你需要的東西。 它有一個大的室,可以配備您需要的任何來源或過程增強。 它是我們最可定制的單室平臺,因此它可以配備特定應用的工具,或者可以成為適用于實驗室中各種獨特用戶的多功能多源沉積工作。

基板固定和屏蔽選項


。EvoVac擁有500mm x 700mm底板,可容納多達14種來源和多種PVD工藝。 您的研究目標,生產需求和/或應用程序的最終目標將告訴您如何裝備您的EvoVac。 我們共同合作,設計出完全符合您要求的系統。


任何可能的

這個PVD平臺

本視頻概述了我們與合作伙伴密切合作提供技術解決方案的一個實例

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EvoVac設計非常棒,手套箱端口易于使用。 去年,這一天用了2269個小時,每天平均每天超過6小時。 它是我們設施中使用最多的設備,對許多研究項目至關重要。 因此,停機時間最小化至關重要。 支持Angstrom Engineering提供的服務問題是卓越的,無與倫比的。 如果我收到了Angstrom為我們工廠的其他儀器提供的客戶支持,我的工作將會更加輕松。


伊薩馬丁博士 - 西西大學


濺射

RF,DC,脈沖DC和HiPIM

圓形,線性和圓柱形陰極可用



沉積源選項

電子束蒸發

各種源電源和電源選項

可編程掃描控制器配方存儲





電子束蒸發

各種源電源和電源選項

可編程掃描控制器配方存儲

扭矩傳感坩堝分度器檢測到卡紙

房間內有多個電子束源






等離子和離子束加工

用于清潔和電影增強的離子源范圍

輝光放電等離子體清洗







加熱和冷卻階段

可變角度階段

滾動加工

加載鎖

掩蔽/基板自動傳送

行貨運動

AERES高級過程控制軟件


易于使用的高級集成軟件平臺


PC / PLC控制的單,批或自動過程的配方


高級數據記錄和過程跟蹤確保一致和可重復的過程



高分辨率控制提供令人印象深刻的低速率穩定性和一致的摻雜比



中央控制站管理每個模塊并安排每個艙室的過程



獨立控制多個室(如果適用)




復雜的食譜可以輕松創建和修改






自動PID控制回路調整可顯著縮短過程開發時間






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