飛濺沉積

使用濺射的沉積系統可以做出令人難以置信的事情。我們的合作伙伴之一使用他們的濺射工具來制造銀納米顆粒,進入醫用乳膏和繃帶,因為銀納米顆粒已經證明了抗菌和抗炎性質。我們為我們的合作伙伴創造的技術與我們的工程系統感到自豪,使這個世界向前發展。濺射僅僅是存放材料的一種方法,但它是創建接觸層的理想選擇,它們用于顯示技術,下一代照明技術如OLED和光學。


濺射如何工作?通過在濺射過程中產生強磁場或電場,在等離子體中產生的離子和電子被限制在更接近源極的指定區域。這導致離子和中性氣體分子之間的更多的碰撞,這產生了甚至更多的離子與目標碰撞并噴射材料。該過程導致更高的沉積速率。與其他類型的濺射相比,磁控管濺射還有助于減少對薄膜的任何損害,因為磁場有助于電子行進特定的路線,而不會轟擊襯底。


磁控濺射可用于產生具有增加粘合力的非常致密的膜涂層。 由磁控濺射產生的涂層由于來自目標的噴射材料的能量較高而增加了膜密度。

濺射是PVD涂層技術。 在此過程中,惰性氣體原子被送入低于10毫乇的相對壓力水平的高真空環境中。 一旦惰性氣體原子離子化,產生氣體樣氣氛,就會使它們與目標物碰撞。 這就是使原子能夠朝向基板噴射,之后它們會凝結并形成薄膜。 該過程繼續將目標材料的新層引入襯底。


在諸如塑料,陶瓷和金屬之類的襯底上沉積材料的許多方法中,由于其可擴展性和沉積各種材料的能力,濺射是最常用的之一。


我們可以配置系統以支持幾種類型的濺射沉積,例如RF濺射,DC濺射和脈沖DC濺射。 這些沉積方法中的每一種使用工藝濺射氣體,其通常是惰性氣體,如氬氣,其中添加反應性氣體用于某些過程。 濺射沉積的其他形式包括離子束濺射,反應濺射,離子輔助濺射,高目標利用濺射,氣流濺射,大功率磁控濺射和面對靶濺射。 具體配置的源使得諸如Fe,Ni和Co之類的濺射磁性材料更容易,并且支持目標厚度的增加。

我們已經創建了許多將磁控濺射作為沉積源的系統。 在較大的室內,我們可以放置幾個濺射源,以及電子束和熱阻源。 我們的合作伙伴使用我們的濺射系統來創建各種接觸層,從醫學上使用的接觸層到夜視眼鏡。 我們擁有使用我們的濺射系統的合作伙伴,采用透明導電層(TCO)濺射技術,創造了OLED TV每個人都想要的家庭狀態,我們有許多合作伙伴使用相同的技術來研究世界各地實驗室的有機光伏。

本網站由阿里云提供云計算及安全服務
久久色人人干香蕉网