LPCVD

設計和制造以滿足石墨烯和CNT研究的高溫和快速冷卻要求,Angstrom的LPCVD(低壓化學氣相沉積)系統將很好地適應您的實驗室。

反應堆


 我們設計了一個水冷卻爐,可在10分鐘內達到1100°C,并在短短2分鐘內將其冷卻至800°C以下。 控制石墨烯生長得到保證,加工時間保持在最低限度。 在??2in和?8in之間提供各種腔室管尺寸,可將單個小樣品加工成6英寸晶圓批次。

您需要研究和利用石墨和碳納米管的工具

?50mm-?200mm石英管腔

需要的各種尺寸的可互換石英管

適用于150mm x 150mm的單個或多個基材

上游法蘭與氣體歧管快速連接

下游端法蘭具有快速連接到泵送和測量


溫度/壓力控制


單區石英燈爐,6寸均勻溫度區

自動調諧功能提供非常穩定的溫度控制

在10分鐘內快速加熱至1100°C

在2分鐘內從1100°C快速冷卻至800°C

下游壓力控制100mTorr至500Torr使用節流增值稅蝶閥

多達12個質量流量控制器


AERES高級過程控制軟件


易于使用的高級集成軟件平臺

PC / PLC控制的單,批或自動過程的配方

高級數據記錄和過程跟蹤確保一致和可重復的過程

高分辨率控制提供令人印象深刻的低速率穩定性和一致的摻雜比

中央控制站管理每個模塊并安排每個艙室的過程

獨立控制多個室(適用于集群或連接配置)

復雜的食譜可以輕松創建和修改

自動PID控制回路調整可顯著縮短過程開發時間



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從實際出貨的時間開始,這個實驗室系統幾乎完美無缺,可以說是將我們的能力擴展到世界上任何有機薄膜實驗室目前可以實現的能力之上。 我將整個系統的成功歸功于卓越的工程設計,以及Angstrom團隊的合作性,在采用我們最好的設計并使其在系統構建過程中更好。


密歇根大學Stephen Forrest博士


操作和安全


安全電路(硬件和軟件)

易燃氣體傳感器(H2)

封閉框架和安全防護

PC / PLC控制器,包括基于Windows的配方和控制軟件

可編輯的配方,數據記錄和密碼保護的訪問控制


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