離子輔助沉積

在離子輔助沉積(IAD)中,離子源將具有一定范圍的離子能量的分散束引向襯底。 該源通常與濺射或電子束源一起工作。 可以使用諸如氬氣的惰性氣體。 或者,如果期望在膜生長期間進一步的化學反應,則可以使用諸如氧和氮的反應性氣體。 IAD工藝允許通過表面反應,膜密度控制和改進的附著力進行高級工藝膜生長。


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Scott Watkins博士 - CSIRO - 澳大利亞墨爾本


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