NEXDEP PVD平臺

這個PVD平臺提供經濟性和多功能性之間的平衡。 它可以配備最強大的流程增強功能,而無需占用實驗室或您的預算中的所有房間

基板固定和屏蔽選項


您的Nexdep擁有400mm x 400mm的底板,可容納多達8個源和各種PVD工藝。 您的研究目標,生產要求或應用程序的最終指標將告訴我們如何配備您的Nexdep。 讓我們共同合作,設計出完全符合您要求的系統。


一個緊湊,經濟,全面的PVD工作臺

這個視頻概述了一個實例,我們與合作伙伴密切合作,提供一個獨特的鍍膜解決方案

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我們的Angstrom系統大大增加了我們的有機光伏器件制造工藝的可重復性,并為整個開發新器件提供了靈活而強大的系統。


博士Sean Shaheen博士 - 科羅拉多大學


濺射

RF,DC,脈沖DC和HiPIM

圓形,線性和圓柱形陰極可用



沉積源選項

電阻式熱蒸發

多樣化的蒸發舟和加熱絲及坩堝加熱器

可編程掃描控制器確保蒸鍍速率的精確控制





電子束蒸發

各種源和電源選項

可編程掃描控制器配方存儲

扭矩傳感坩堝分度器檢測到位置

腔室內可安裝多個電子束源






等離子和離子束加工

用于清潔和電影增強的離子源范圍

輝光放電等離子體清洗







加熱和冷卻階段

可變角度階段

滾動加工

進樣室

掩膜板/基板自動傳送

行星運動

AERES高級過程控制軟件


易于使用的高級集成軟件平臺


PC / PLC控制的單次,批次或自動鍍膜的程序


高級數據記錄和過程跟蹤確保一致和可重復的過程



高分辨率控制提供令人印象深刻的低速率穩定性和一致的摻雜比



中央控制站管理每個模塊并安排每個腔室的過程



獨立控制多個腔室(如果適用)




復雜的程序可以輕松創建和修改






自動PID控制回路調整可顯著縮短過程開發時間






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